Кина направи огромен чекор во обидот да ја намали зависноста од странската технологија за производство на полупроводници, откако започна масовно производство на сопствени машини за потопна длабоко-ултравиолетова (DUV) литографија – клучна опрема за изработка на напредни чипови. Производството го предводи малку познатата државна компанија „Shanghai Aishengna Electronic Technology Group“, која ги обедини тимовите од неколку кинески стартапи за литографска технологија.
Кинеската индустрија за полупроводници направи значаен напредок со започнувањето на производство на домашно развиени DUV литографски машини, технологија која долго време е доминирана од холандската компанија ASML.
Според извори запознаени со процесот, државната компанија „Shanghai Aishengna Electronic Technology Group“ ја презела водечката улога во производството, откако во своите структури вклучила експерти и тимови од кинески компании кои работеле на развој на литографска опрема.
Развојот се смета за успех за кинеската стратегија за технолошка самостојност во полупроводничката индустрија, која е еден од приоритетите на претседателот Xi Jinping. Сепак, експертите оценуваат дека новата кинеска технологија засега не претставува непосредна закана за комерцијалната позиција на ASML.
DUV машините се меѓу најважните алатки во производството на чипови и се користат за создавање на различни видови полупроводници. Најсовремените модели на оваа технологија досега беа под контрола на ASML, која е главниот глобален производител на напредна литографска опрема.
Според информациите, Кина планира оваа година да произведе околу пет вакви машини, а до 2027 година бројката би можела да достигне околу 20 уреди.
Новите кинески DUV машини се очекува да бидат доставени до големи домашни производители на чипови, меѓу кои се Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), Hua Hong Semiconductor и производителот на мемориски чипови ChangXin Memory Technologies (CXMT).
DUV технологијата користи слој вода помеѓу оптичката леќа и силиконската плочка за да овозможи печатење на помали структури во чиповите од оние што ги овозможуваат традиционалните суви системи. Со техниката на повеќекратно изложување, овие машини можат да се користат и за производство на посложени полупроводници.
Сепак, кинеската технологија сè уште е далеку од достигнување на нивото на најдобрите модели на ASML. За успешно користење во масовно производство потребни се дополнителни тестирања и подобрувања во стабилноста, прецизноста и ефикасноста.
Компанијата Aishengna е основана во август 2023 година со регистриран капитал од 7 милијарди јуани (околу една милијарда долари), а е поддржана од државните акционери Shanghai Electric Holding и подружница на Shanghai International Trust.
Компанијата нема јавна веб-страница и досега малку се знае за нејзиното работење. Според изворите, таа ги вклучила тимовите од стартапот Yuliangsheng, кој минатата година започнал тестирање на DUV прототип, како и од Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE), една од клучните кинески компании во развојот на полупроводничка опрема.
Кина со години е ограничена во пристапот до најнапредните машини на ASML. Соединетите Американски Држави ѝ забранија набавка на најсовремените EUV литографски системи, додека Холандија воведе ограничувања за извоз на дел од напредните DUV уреди.
И покрај напорите за технолошка независност, Кина останува важен пазар за ASML, со околу 16 отсто од приходите на компанијата во првата половина од годината.
Аналитичарите оценуваат дека производството на неколку кинески DUV машини нема веднаш да го промени пазарот, бидејќи масовното производство на чипови бара висока сигурност, прецизност и стабилност при илјадници производствени циклуси.
„Производството на неколку потопни DUV машини не е исто што и производство на опрема за големи серии, каде што приносот, прецизноста и сигурноста се клучни фактори“, наведоа аналитичарите на JPMorgan Chase во анализа.
